青蒿素纳米混悬液高速胶体磨

技术方案为：

一种基于青蒿素类似物的纳米混悬液的制备方法，它包括如下步骤：

1)将蒿属植物粉料进行闪式提取，得到青蒿素类似物提取液，然后进行闪式蒸发浓缩，得青蒿素类似物(粗提物)浓缩液；

2)将所得青蒿素类似物浓缩液与吐温80混合，超声分散，加热搅拌并向其中加入水，搅拌稀释，得基于青蒿素类似物的纳米混悬液。

上海依肯胶体磨设备介绍：

混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海依肯高速胶体磨。

该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)混悬液胶体磨CMS2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。

上海依肯CMS2000系列锥体磨突破传统意义上的砂磨机，是技术上的进一步革新。**的粉碎效果源自硬质**的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各级刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。产品说明：CMS2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形间的间隙调节至来完成的。间隙可进行无级调节。粉碎效果亦源于硬质的表面结构。**表面含高质材料，如：金属碳化物或不同粒径的陶瓷。因此**在强力剪切区域内被保护，防止损耗和撕破。在高粘度情况下，将锥形**适当调低同样可以进行加工。

CMS2000系列研磨分散机的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

混悬液注射液胶体磨

高速胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMS 2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMS 2000/5	5,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMS 2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMS 2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMS 2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMS 2000/50	100000	2,000	40	160	DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*允许量的10%。