纳米核酸导向药物高速胶体磨

一种制备纳米核酸导向药物的方法，所述方法包括

(1)将C32粒子、导向物、核酸药物混合分散，形成复合物；

(2)将(1)获得的复合物进行聚乙二醇修饰，获得纳米核酸导向药物。

在另一优选例中，所述的导向物是多肽，且步骤⑴包括(a)将C32与导向物进行酯化反应，形成C32-导向物复合物；以及(b)将C32-导向物复合物与核酸药物混合，形成C32-导向物-核酸药物复合物。在另一优选例中，步骤(a)中，C32与导向物的摩尔比是1 (2_3)；较佳地是 1 2.4。

在另一优选例中，步骤(a)中，酯化反应的催化剂是S0427Si02。在另一优选例中，步骤(a)中，酯化反应的时间是4士2小时；较佳地是4士 1小时。在另一优选例中，聚乙二醇修饰的方法是将C32-导向物_miRNA(较佳地溶于碳酸钠溶液)与过量的mPEG-SPA(较佳地溶于乙腈中)反应。在本发明的另一方面，提供所述的纳米核酸导向药物的用途，用于制备靶向治疗疾病的组合物。在本发明的另一方面，提供一种组合物，含有有效量的所述的纳米核酸导向药物；以及药学上可接受的载体。本发明的其它方面由于本文的公开内容，对本领域的技术人员而言是显而易见的。

上海依肯胶体磨

一层由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列胶体磨选型表

型号	流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150